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离开了美国 ， 中国几年能造出高端芯片？上海的官方给出了答案
“中国在美国的情况下 ， 能在未来的几年里 ， 生产出更好的芯片？”华为的芯片风波之后 ， 许多网民纷纷在网络上发出质疑 ， 期待着“中国芯”的出现 。
近年来 ， 老美一直在利用其芯片技术上的优势 ， 对中企如华为等“撒钉子” ， 试图遏制中国的技术进步 。
在科技不断更新和更新换代的前段时间 ， 芯片已经成为了绝大部分电子设备的重要部件 ， 没有它的支持 ， 任何人都不可能正常工作 。
虽然芯片体积很小 ， 但它的制作难度很高 ， 需要将每一粒沙子中的单晶硅都提炼出来 ， 并且将其切割为硅片 ， 并通过光刻、等离子注入等一系列复杂的工艺 ， 最终将其用于电子领域 。
在整个生产过程中 ， 涉及到大量高科技 ， 如eda软件、光刻机、蚀刻机、等离子注入机、光刻胶等 。
中国科学院院士吴汉明曾经在一次技术会议上感叹：“芯片是人类智慧的结晶 ， 必须要有全世界的半导体产业链 ， 单靠一国之力 ， 是很难做出高质量的芯片的 。 ”
高端芯片很难做 ， 但我们必须要自己做 ， 因为高端芯片已经成为了中国公司发展道路上的一块绊脚石 ， 如果不能做到自己的产品 ， 就永远不可能走出垄断地位 。
我们都知道 ， 像荷兰asml这样的企业 ， 都是从美企业进口的半导体技术 ， 无法向中企业提供产品 ， 这就造成了国内芯片的落后 ， 中美两国的技术差距越来越大 ， 如果放弃美企业的技术 ， 我们要多少年才能把高端芯片做出来？
就在不久前 ， 上海方面的官员们给出了一个标准的答复：14nm的全国产芯片 ， 在国内的光刻机、蚀刻机、等离子注入机、5g芯片、12英寸大晶圆等领域 ， 都有了突破性的进展 。
上海发布的这条重大新闻表明 ， 我国半导体行业的总体水平已有了长足的进步 ， 并进一步缩短了与欧美的技术差距 。
结合近两年的新闻 ， 清华北大、中科院等科研单位 ， 都已经将euv光刻技术的核心技术完全掌握 ， 再过几年 ， 国内就可以自主研发euv光刻机了 。 五年时间 ， 就能解决高端芯片的瓶颈问题 。
14nm全国产芯片的大规模生产 ， 再次证明了一件事：再先进的仪器 ， 也不是神造 ， 而是中国的科学家！
“中国芯”的持续突破 ， 产生了深远的影响 ， asml公司因害怕丧失国内庞大的市场 ， 去年开始加速在国内的布局 ， 新设研发中心 ， 销售duv光刻机78台 。
此外 ， 中企在今年头七个月内 ， 因国内晶片产能持续增长 ， 共砍掉550亿枚晶片 ， 共出口1600亿片 ， 其中一些晶片的售价也从200元跌到20元 。
俄乌战争的爆发 ， 让我们明白 ， 在这个世界上 ， 并不存在什么“岁月静好”的说法 ， 我们能够在和平的环境下生存 ， 是因为有人在背负着沉重的担子 ， 为了“岁月静好” ， 每个中国人都能站在自己的岗位上 ， 为祖国的繁荣做出自己的贡献 。
【离开了美国，中国几年能造出高端芯片？上海的官方给出了答案】